苏州方昇股份有限公司
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2022-03-20
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何剑波
1、真空系统： 包含真空腔体（尺寸450*450*610mm）、低温泵(ULVAC CRYO-U8H)、干泵(Edwards XDS35I)、插板阀(V-texCF200)、真空计(Inficon MPG400） 2、蒸发沉积系统： 包含蒸发源8组、电极切换继电器8套、可编程直流电源2台、膜厚控制仪1套、水冷膜厚探头2套、膜厚探头2套 3、样品架系统： 包含水冷样品架1套、样品盘挡板1套、温度监测系统1套、气缸2个、磁流体6个 4、电控系统： 包含伺服电机1台、工控机1台、电源系统(PLC等)1台、水冷机1台
1、可蒸镀Ag、Al、Cr、Cu、Au、Ni等材料并兼容蒸镀有机材料 2、兼容8英寸方片（203.2mm×203.2mm）及兼容8英寸以下碎片 3、8个蒸发舟 4、输出电流控制精度0.1A 5、极限真空度≤1.5E-5Pa，蒸镀过程中，真空度上升≤1E-3Pa 6、薄膜沉积均匀性≤±5%（8英寸基片范围，膜厚100nm） 7、膜厚重复性≤±5% 8、可旋转、转速0~60rpm可调 9、基片温度均匀性≤±5%
| 仪器名称 | 热蒸发薄膜沉积系统 Thermal Evaporation Thin Film Deposition System |
| 规格型号 | FS450-S8 |
| 仪器放置位置 | 厦门大学翔安校区能源材料大楼1号楼1层-微纳制造中心-实验室1 |
| 仪器功能介绍 | 可蒸镀Ag、Al、Cr、Cu、Au、Ni等材料并兼容蒸镀有机材料，用于Life-off工艺。 |
| 性能指标 | （1）设备适用于最大8寸，可兼容8寸以下包括碎片； （2）薄膜均匀性≤5%； （3）镀膜速率和厚度可设定，并时时显示，镀膜镀率精度0.1Å/s，膜厚精度0.1Å； （4）配有2套蒸发电源，8个蒸发舟，可满足2种材料共同蒸发。 |
| 样品要求 | （1）样品最大8寸，可兼容8寸以下及碎片； （2）预约前需提前与管理员确认是否有相应蒸镀材料； （3）样品厚度小于20mm； （4）制样时应提供详细的样品说明（包括衬底材质、尺寸、表面状况等）和制样要求（包括沉积膜种类、沉积速率、沉积厚度、膜层性能要求等）。 |
| 仪器说明 | （1）设备配有低温泵、独立真空系统； （2）配有8个蒸发舟，一可满足共蒸需求； （3）配有2套电源，额定功率1.4KW以上 （4）基片可旋转，转速度0-60rpm； |
样品最大8寸，可兼容8寸以下及碎片；
预约前需提前与管理员确认是否有相应蒸镀材料；
样品厚度不超过20mm；
制样时应提供详细的样品说明（包括衬底材质、尺寸、表面状况等）和制样要求（包括沉积膜种类、沉积速率、沉积厚度、膜层性能要求等）。
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09:00-12:00;14:00-18:00
0.5 小时
168 小时
0.5 小时
未授权用户: 0小时； 普通资格用户: 0小时； 资深资格用户: 0小时
未授权: 720 小时 0 点； 普通: 720 小时 0 点； 资深: 720 小时 0 点
30 分钟
60 分钟
30 秒
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| 用户资格 | 工作时间 | 非工作时间 |
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| 序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
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