Denton vacuum
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2021-11-26
美国
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1.真空系统由Loadlock腔和Process腔两部分组成，Loadlock腔采用分子泵+干泵的组合，Process腔采用低温泵+干泵的组合，极限真空8E-8Torr；2.溅射系统：溅射靶枪有4组，配备一组射频电源（600W）、一组直流电源（1200W）、一组脉冲直流电源（1000W）；3.气体供应系统：配备三路气体（氧气、氩气、氮气），各自由100sccm MFC进行控制，具备气压调节功能，维持压力恒定；4.样品系统：样品架最高转速为20rpm，最高温度800摄氏度，同时具备偏压清洗功能（与靶枪共用一组射频电源）。
8寸范围内厚度均匀性≤5% 6寸范围内厚度均匀性≤3% 批次间厚度重复性≤3% 150nm厚度ITO方块电阻≤13±2Ω/□，550nm处透射率≥90% 氮化硅500nm处折射率2.03±0.03 氧化硅500nm处折射率1.45±0.03
①提前24h联系管理员更换靶材；
②单次膜厚500nm以下，超500nm请与管理员确认靶材余量；
③硫化物及硒化物、强磁、低熔点类镀膜材料及加热实验不接受预约；
**** 请登录后查看管理员信息
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09:00-11:30;14:00-16:45
0.5 小时
168 小时
0.25 小时
未授权用户: 24小时； 普通资格用户: 24小时； 资深资格用户: 0.5小时
未授权: 192 小时 0 点； 普通: 192 小时 0 点； 资深: 192 小时 0 点
15 分钟
30 分钟
30 秒
5 秒
120 秒
5 次/天
1440 分钟
| 用户资格 | 工作时间 | 非工作时间 |
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| 未授权资格 | ||
| 普通资格 | ||
| 资深资格 |
| 序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
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待审核
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| 序号 | 标题 | 链接 | 操作 |
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