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紫外纳米压印机

紫外纳米压印机

  • 仪器分类: 微纳加工平台
  • 仪器状态:
  • 所属单位: 嘉庚创新实验室
  • 仪器生产商: 青岛天仁微纳科技有限责任公司
  • 购置日期: 2022-10-09
  • 使用模式:
  • 规格型号: GL8 CLIV Gen2
  • 放置房间号: 能源材料大楼1号楼微纳制造中心实验5
仪器生产商

青岛天仁微纳科技有限责任公司

资产编号

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资产负责人

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购置日期

2022-10-09

仪器产地

青岛

仪器供应商

青岛天仁微纳科技有限责任公司

购买经办人

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主要配件

全自动纳米压印机,工作模具张力控制单元,离线工作模具复制单元;chuck兼容2/4/6/8寸晶圆;

主要参数

1、适用于最大8英寸晶圆、并向下兼容6英寸、4英寸、2英寸的晶圆,以及方片;2、样品厚度0-0.8mm;3、光源:365nm LED紫外光固化系统;4、压印结构精度50nm;深宽比7.5:1;压印残余层厚度<20nm;可用于斜齿光栅结构压印;对位精度:上下层对位标记几何中心偏差不超过±6um;5、自动压印、自动曝光固化、自动脱模;6、兼容基底材料:硅片、玻璃、石英、塑料、金属等;兼容原始模具材料:硅片、玻璃、石英、塑料、金属等;7、载台最高温度70℃;

仪器介绍

仪器名称紫外纳米压印机
Nano-im#### lithography machine
规格型号GL8   CLIV Gen2
仪器放置位置能源材料大楼1号楼微纳制造中心实验5
仪器功能介绍1、微电子制作,MEMS/NEMS/传感器,微流体,光波管;
2、光学器件制作,虚拟现实和增强现实光波导(
AR Waveguides);
3、三维激光微纳米加工;
性能指标1、光源:365nm LED紫外光固化系统;
2
、压印结构精度50nm;深宽比7.5:1;压印残余层厚度<20nm
3、对位精度:上下层对位标记几何中心偏差不超过
±6um
4、加工面积:200
mm*200mm
样品要求1样品尺寸:2/4/6/8寸晶圆及方片;
2、载台最高温度
70℃;
3、基底材料:硅片、玻璃、石英、塑料、金属等;
4、原始模具材料:硅片、玻璃、石英、塑料、金属等;
仪器说明1自动压印、自动曝光固化、自动脱模;
2、兼容工作模具张力控制单元、离线工作模具复制单元;
3、载台最高温度
70


1、需自带模板、PET膜;2、方片基底只能手动取放片;

主要仪器管理员

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仪器管理员

****

仪器管理员

****

工作时间

09:00-12:00;14:00-18:00

最小可预约时间段

0.5 小时

最大可预约时间段

168 小时

日历最小单位

0.5 小时

最近提前预约时间

未授权用户: 24小时; 普通资格用户: 24小时; 资深资格用户: 24小时

最远提前预约时间

未授权: 720 小时 0 点; 普通: 720 小时 0 点; 资深: 720 小时 0 点

预约保护时间

15 分钟

失约保护时间

15 分钟

断电延时时间

30 秒

最短重上电时间

5 秒

使用超时提醒

120 秒

最大有效预约次数

5 次/天

无代价撤销预约时间

1440 分钟

用户资格 工作时间 非工作时间
未授权资格
普通资格
资深资格
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