Nano-master
----
----
2022-06-20
美国
NANO-MASTER, Inc
王雅思
1 离子束刻蚀机主机 NANO-MASTER NIE-4000 美国 1 1-1 主机：工艺腔体 NANO-MASTER 20”立方，不锈钢 美国 1 1-2 主机：样品台 NANO-MASTER 最大支持 8” 美国 1 1-3 主机：自动进样室 NANO-MASTER 最大支持 8” 美国 1 1-4 主机：离子枪 考夫曼 RF ICP220 美国 1 1-5 主机：分子泵 Pfeiffer HiPace 1200 法国 1 1-6 主机：进样室分子泵 Pfeiffer 或 Edwards 70L/s 抽速 法国 1 1-7 主机：真空计 MKS Baratron 美国 1 1-8 主机：真空计 BOC Edwards WRG 美国 1 1-9 主机：MFC MKS 100sccm 美国 4 1-10 主机：控制软件 NANO-MASTER Labview 美国 1 2 主腔室机械泵 Ebara EV-A10 日本 1 3 进样室机械泵 IWATA ISP250 日本 1
1.1 设备适用样品范围：最大支持 8“，并向下兼容。 1.2 设备操作模式：全自动操作界面。 1.3★离子源：射频离子源。 1.4★离子源直径：≥20mm。 1.5 样品台倾斜范围：≥-90°~+75°。 1.6 刻蚀能力，支持垂直刻蚀和斜齿刻蚀 1.7 刻蚀均匀性：片内 8”<5%；6”<3%。 1.8 样品台旋转转速：0-10rpm， 1.9 腔体内工作时的工艺温度：≤80C. 1.10★设备具 Load Lock 腔体 1.11★工艺腔和 Load Lock 腔各自配置独立的分子泵接干泵；工艺腔配置双真空计， Load Lock 腔配置独立的真空计。 1.12 设备工艺腔极限可达 10-8Torr 量级， 20 分钟可达 10-6Torr 量级； Load Lock 极限可达 10-6Torr，15 分钟可达 10-4Torr。 1.13 设备配备终点检测系统。 1.14 工艺菜单可以保存无限数量。 1.15 工艺气体包含 SF6、CHF3、Ar、O2、Cl2 等。 1.16★具有背氦冷却系统。 1.17 图形尺寸为 200nm、500nm、μm 线宽结构刻蚀 100nmHfOX 材料， 结构的陡直度 90°±3°；图 形尺寸为 500nm、1μm、2μm 线宽结构刻蚀 500nmSixNy 材料， 结构的陡直度 90°±10°； 倾斜 刻蚀图形尺寸为 500nm、1μm 线宽结构刻蚀 500nmSixNy 材料倾斜角度要 50°±5°。
| 仪器名称 | 反应离子束刻蚀系统 |
| 规格型号 | NIE-4000 |
| 仪器放置位置 | 厦门大学翔安校区能源材料大楼1号楼1层-微纳制造中心-实验室1 |
| 仪器功能介绍 | 结合纯物理刻蚀及反应气体辅助的化学刻蚀，可实现对包括贵 金属的各类金属，介质，化合物，石英等各类材料的刻蚀加工 |
| 性能指标 | 1、图形尺寸为 200nm、500nm、μm 线宽结构刻蚀 100nmHfOX 材料， 结构的陡直度 90°±3°； 2、图形尺寸为 500nm、1μm、2μm 线宽结构刻蚀 500nmSixNy 材料， 结构的陡直度 90°±10°； 3、倾斜刻蚀图形尺寸为 500nm、1μm 线宽结构刻蚀 500nmSixNy 材料，倾斜角度要 50°±5°。 |
| 样品要求 | 1. 8寸及以下； |
| 仪器说明 |
|
**** 请登录后查看管理员信息
****
****
09:00-12:00;14:00-18:00
0.5 小时
168 小时
0.5 小时
未授权用户: 24小时； 普通资格用户: 24小时； 资深资格用户: 24小时
未授权: 720 小时 0 点； 普通: 720 小时 0 点； 资深: 720 小时 0 点
15 分钟
15 分钟
30 秒
5 秒
120 秒
5 次/天
1440 分钟
| 用户资格 | 工作时间 | 非工作时间 |
|---|---|---|
| 未授权资格 | ||
| 普通资格 | ||
| 资深资格 |
| 序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
|---|
待审核
预约有效
预约完成
预约失约
预约被占用
| 序号 | 标题 | 链接 | 操作 |
|---|
