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大型激光直写系统

大型激光直写系统

  • 仪器分类: 微纳加工平台
  • 仪器状态: (张贝)
  • 所属单位: 嘉庚创新实验室
  • 仪器生产商: Heidelberg Instruments
  • 购置日期: 2022-11-17
  • 使用模式: 项目委托,按时预约
  • 规格型号: DWL 66+
  • 放置房间号: 能源材料大楼1号楼1139实验室5
仪器生产商

Heidelberg Instruments

资产编号

----

资产负责人

----

购置日期

2022-11-17

仪器产地

德国

仪器供应商

Stella International Corporation Limited

购买经办人

王雅思

主要配件

1、激光器:波长405nm;2、4种直写写头:HiRes、4mm、10mm、40mm,分辨率分别为0.3/0.6/1/4μm;3、高精度工作台,样品定位精度10nm;4、氦氖激光干涉仪,分辨率:10 nm;5、自动聚焦系统;6、电器控制系统等。

主要参数

1、LED405nm光源,输出功率300mW;2、最大基板尺寸9英寸,最大写入面积200×200mm2;3、样品厚度0mm~12mm;4、最高分辨率300nm,多种分辨率0.3/0.6/1/4μm;5、最大写入速度2000mm2/min;6、正背面套刻功能,正面套刻精度0.5μm ,背面套刻精度1μm 。

仪器介绍

仪器名称
大型激光直写系统
仪器型号DWL 66+
仪器功能

1、普通光刻:百纳米/微米级图形结构、掩模版等;

2、正背面套刻;

3、灰度加工:支持0~255灰阶,三维形貌结构;

4、自动测量系统:可测量线宽,间距,线边粗糙度等

性能指标

1、最高分辨率300nm;

2、4种写头,分辨率分别为0.3/0.6/1/4μm;

3、正背面套刻功能,正面套刻精度:0.5μm,背面套刻精度:1μm;

4、最高分辨率下加工拼接精度:50nm;

5、灰度光刻:支持0~255灰阶;

6、最大基板尺寸9英寸,最大写入面积200×200mm2,最快刻写速度:2000 mm2/min;

样品要求

1、支持8英寸及向下尺寸兼容;

2、样品厚度0~12mm;



主要仪器管理员

**** 请登录后查看管理员信息

仪器管理员

****

工作时间

09:00-12:00;14:00-18:00

最小可预约时间段

0.5 小时

最大可预约时间段

168 小时

日历最小单位

0.5 小时

最近提前预约时间

未授权用户: 0小时; 普通资格用户: 0小时; 资深资格用户: 0小时

最远提前预约时间

未授权: 168 小时 0 点; 普通: 168 小时 0 点; 资深: 168 小时 0 点

预约保护时间

30 分钟

失约保护时间

30 分钟

断电延时时间

30 秒

最短重上电时间

5 秒

使用超时提醒

120 秒

最大有效预约次数

5 次/天

无代价撤销预约时间

1440 分钟

用户资格 工作时间 非工作时间
未授权资格
普通资格
资深资格
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