Microtech
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2019-10-30
意大利
上海硕赛国际贸易有限公司
戴彬
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栅距为0.8μm光栅
仪器名称 | 激光直写光刻系统 Laser Direct Lithography System |
| 规格型号 | Microtech LW405D |
| 仪器放置位置 | 厦门大学翔安校区能源材料大楼1号楼微纳制造中心洁净室实验室2 |
| 仪器功能介绍 | 1、快速微纳米加工和小规模生产，可达到高分辨的器件； 2、掩膜板制作，无掩膜激光直写，成衍射光学器件， MIC微波集成电路； 3、微电子制作，MEMS/NEMS/传感器，微流体，光波管； 4、石墨烯器件，三维激光微纳米加工； |
| 性能指标 | 1、405nm和375nm双激光源； 2、四个平行激光头，分辨率分别为0.7um, 1.6um, 4um，8um； 3、加工深宽比优于5比1； 4、150mm*150mm加工面积； 5、10nm纳米平台定位精度； |
| 样品要求 | 1、样品尺寸小于150mm*150mm; 2、表面光刻胶涂层，厚度1微米到20微米； 3、硬性衬底如玻璃，硅片； 柔性衬底如PET等； 4、样品整体厚度不超过10mm; |
| 仪器说明 | 1、原位CCD观察和量测； 2、激光束光栅扫描模式, 样品台扫描模式, 矢量光刻模式, 轮廓光刻模式； 3、用于多层光刻图形的刻套校准； 4、3D灰度光刻能力Grey-level, 每像素点256阶； |
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09:00-12:00;14:00-18:00
0.25 小时
168 小时
0.5 小时
未授权用户: 12小时； 普通资格用户: 2小时； 资深资格用户: 0小时
未授权: 720 小时 0 点； 普通: 720 小时 0 点； 资深: 720 小时 0 点
15 分钟
15 分钟
30 秒
5 秒
120 秒
5 次/天
1440 分钟
| 用户资格 | 工作时间 | 非工作时间 |
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| 普通资格 | ||
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| 序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
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