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电子束曝光系统

电子束曝光系统

  • 仪器分类: 微纳加工平台
  • 仪器状态:
  • 所属单位: 厦门大学 > 石墨烯工程与产业研究院
  • 仪器生产商: ZEISS
  • 购置日期: 2019-09-25
  • 使用模式: 按时预约
  • 规格型号: Sigma300+ELPHY Quantum
  • 放置房间号: 能源材料大楼1号楼微纳制造中心实验4
仪器生产商

ZEISS

资产编号

----

资产负责人

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购置日期

2019-09-25

仪器产地

德国

仪器供应商

卡尔蔡司管理有限公司

购买经办人

戴彬

主要配件

sigma300+ELPHY Quantum,干泵,分子泵,离子泵,样品腔,扫描电镜工作站系统,

主要参数

1、样品尺寸最大为20x20mm; 2、分辨率:二次电子成像,1nm@15kV/1.6nm@1kV; 3、光刻精度小于100nm 。

仪器介绍

仪器名称(中文/英文)    电子束曝光系统
    Electron beam lithography
规格型号Zeiss   sigma300+Raith ELPHY Quantum
仪器放置位置
厦门大学翔安校区能源材料大楼1号楼1层-微纳制造中心-实验室4
    仪器功能介绍
  
    1、获取样品的微纳米级高分辨形貌;
    2、可进行二次电子与背散射电子成像;
    3、光刻精度小于100nm
性能指标
     
    1、分辨率:二次电子成像,1nm@15kV/1.6nm@1kV;
    2、光刻精度小于100nm 
样品要求
    
    1、样品中不得含有水分,多孔类或易潮解的样品,需进行真空干燥处理,生物样品需进行冷冻干燥制样;
    2、样品应具有导电性,若样品不导电或导电性差,则需要自行镀金、铂碳等导电膜的处理。
    3、送样测试建议提供文献图片和符合要求的图片,或填写详细测试预约表,每个区域提供3-4张不同放大倍数满足测试要求的图片,如不能满足要求,拍摄多区域图像证实样品真实情况,寄送样品质量应大于20mg。
仪器说明
   
    1、该仪器设备配有独立的二次电子探测器(ET和Inlens)和背散射电子探测器(HDBSD),可选择接受二次电子、背散射电子进行成像
    2、EBL系统,光刻精度小于100nm

    

主要仪器管理员

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工作时间

09:00-12:00;14:00-18:00

最小可预约时间段

0.5 小时

最大可预约时间段

168 小时

日历最小单位

0.5 小时

最近提前预约时间

未授权用户: 24小时; 普通资格用户: 12小时; 资深资格用户: 0小时

最远提前预约时间

未授权: 7 天 18 点; 普通: 7 天 18 点; 资深: 7 天 18 点

预约保护时间

30 分钟

失约保护时间

30 分钟

断电延时时间

10 秒

最短重上电时间

5 秒

使用超时提醒

120 秒

最大有效预约次数

5 次/天

无代价撤销预约时间

1440 分钟

用户资格 工作时间 非工作时间
未授权资格
普通资格
资深资格
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