美国CVD equipment corporation
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2021-01-11
美国
美国CVD equipment corporation
叶进裕
1、该设备构成反应炉体、石英管、控制系统（含加热元件和PID电子元件）、气路系统（CH4、C2H4、H2、Ar）、壁挂式的尾气烧结炉、软件、配电箱等； 2、配有等离体系统及对应的石英管、密封圈
1、腔体内温度最高可达1100℃，加热部件寿命≥10000小时 2、三个独立加热、独立调控的恒温区 3、可控升温速率≥20℃/min，降温速率≥25℃/min 4、基本真空≤20mTorr
| 仪器名称（中文/英文） | 化学气相沉积（CVD） Chemical vapor deposition |
| 仪器状态 | 在用 |
| 规格型号 | ET3000EXT |
| 仪器放置位置 | 厦门大学翔安校区能源材料大楼1号楼1层-微纳制造中心-实验室1 |
| 仪器功能介绍 | 1、在铜箔、镍片等催化性基底上以高温~1000℃热分解气源方式直接沉积高质量单层石墨烯 2、可使用等离子功能，在低温~400℃进行石墨烯沉积 |
| 性能指标 | 1、适用于最大可兼容直径4英寸晶圆及以下或方片150x100mm及以下、更小的晶圆和不规则碎片； 2、腔内温度最高可达1100℃； 3、本底真空：≤20mTorr； 4、工艺可控真空范围：200mTorr~500mTorr（任意可调） 5、1000Torr和10Torr双压力计可选，可实现常压、低压工艺 |
| 样品要求 | 1、样片最大可兼容直径4英寸晶圆及以下或方片150x100mm及以下 2、铜箔厚度建议≥25μm |
| 仪器说明 | 1、该设备构成反应炉体、石英管、控制系统（含加热元件和PID电子元件）、气路系统（CH4、C2H4、H2、Ar）、壁挂式的尾气烧结炉、软件、配电箱等； 2、配有等离体系统及对应的石英管、密封圈 |
1、提前预处理好衬底
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09:00-12:00;14:00-18:00
0.5 小时
168 小时
0.5 小时
未授权用户: 24小时； 普通资格用户: 24小时； 资深资格用户: 24小时
未授权: 720 小时 0 点； 普通: 720 小时 0 点； 资深: 720 小时 0 点
15 分钟
15 分钟
30 秒
5 秒
120 秒
5 次/天
1440 分钟
| 用户资格 | 工作时间 | 非工作时间 |
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| 未授权资格 | ||
| 普通资格 | ||
| 资深资格 |
| 序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
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待审核
预约有效
预约完成
预约失约
预约被占用
| 序号 | 标题 | 链接 | 操作 |
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