北京埃德万斯离子束技术研究所股份有限公司
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2025-02-18
中国
北京埃德万斯离子束技术研究所股份有限公司
陈海城
1 工艺腔体-衬板 非标 2 射频离子源 RF-30cm 3 射频中和器及电源 0-1500mA 4 MFC流量控制器 FCE 5 分子泵 ATH2303，抽速：2150L/S 6 刻蚀腔前级干泵 GH-160A-01抽速：600m³/h 7 LoadLock腔前级干泵 IDSP36抽速：36m³/h 8 LoadLock腔分子泵 JTFB-80 9 8英寸机械电极 φ200mm 10 传输机械手 Φ200mm 11 冷水机（水冷机） DX-208.温度调节范围-20°~35° 12 背氦压力监测装置（电容薄膜规） ZJ-1C-12TFV 13 栅网绝缘陶瓷 非标 14 栅网隔离套 非标 15 石英杯 非标
1. 样品兼容性 o 最大支持晶圆尺寸：8英寸 o 兼容更小尺寸样品 2. 衬板与样品台设计 o 专用衬板：2套，易拆卸、易清洁 o 样品台倾斜范围：-90°至+80° o 样品台旋转速度：0-20rpm可调 3. 射频离子源技术 o 离子源直径：≥220mm o 提供稳定、高效的离子束输出 4. 刻蚀性能 o 支持垂直刻蚀与斜齿刻蚀 o 8英寸样品片内均匀性：<5% o 6英寸样品片内均匀性：<3% 5. 工艺温度控制 o 腔体内工艺温度：≤80℃ 6. Load Lock腔体设计 o 有效隔离外界污染，提高工艺效率与设备稳定性 7. 真空系统 o 泵组配置：涡轮分子泵+干泵 o 真空计配置：工艺腔与Load Lock腔分别配置 o 分子泵最大抽速：不低于2100L/s o 干泵最大抽速：不低于600m³/h o 工艺腔极限真空度：7x10-7Torr量级，20分钟可达10-6Torr量级。 o Load Lock极限真空度：10-6Torr，15分钟可达10-4Torr。
| 仪器名称 | 反应离子束刻蚀机 |
| 规格型号 | RFIBE-300 |
| 仪器放置位置 | 厦门大学翔安校区能源材料大楼1号楼1层-微纳制造中心-实验室1 |
| 仪器功能介绍 | 结合纯物理刻蚀及反应气体辅助的化学刻蚀，可实现对包括贵 金属的各类金属，介质，化合物，石英等各类材料的刻蚀加工 |
| 性能指标 |
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| 样品要求 | 8寸及以下； |
| 仪器说明 |
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08:00-18:00
0.5 小时
168 小时
0.5 小时
未授权用户: 24小时； 普通资格用户: 2小时； 资深资格用户: 0小时
未授权: 168 小时 0 点； 普通: 168 小时 0 点； 资深: 168 小时 0 点
30 分钟
30 分钟
15 秒
5 秒
120 秒
5 次/天
1440 分钟
| 用户资格 | 工作时间 | 非工作时间 |
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| 未授权资格 | ||
| 普通资格 | ||
| 资深资格 |
| 序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
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待审核
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| 序号 | 标题 | 链接 | 操作 |
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