合肥致真精密设备有限公司
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林露根
2025-08-06
中国
北京时代天启真空科技有限公司
林露根
1.溅射室：真空腔体、样品台、阴极及电源、低温泵、干泵系统及真空测量系统等 2.进样室：真空腔体、6 层样品架、样品传输系统、分子泵、干泵系统及真空测量系统等 3.控制系统：电控系统及操作软件 4.水电气系统 供电系统、气路系统、冷却系统及照明系统等
1.适用于8英寸以下晶圆； 2.配有750W射频源、 1200W直流源以（支持脉冲模式）； 3.配有气体O2、Ar和N2； 4.膜厚均匀性(片内)±2%(6”)，±3%(8”)； 5.可溅射Cr、Al、Pt、Au、Ag、W、TiW、TiN、SixNy氮化薄膜及ITO薄膜； 6.支持500℃原位退火，样品台带水冷功能； 7.单次支持最多6盘样品逐一自动作业，支持镀膜前Dryclean功能 8.支持单靶溅射及双靶共溅射
本设备属于物理气相沉积系统，利用磁控溅射镀制高质量薄膜。可溅射Cr、Al、Pt、Au、Ag、W、TiW、TiN、SixNy氮化薄膜及ITO薄膜。
| 仪器名称 | 磁控溅射（TREC致真） Magnetron Sputter System |
| 规格型号 | MSI-100-HV |
| 仪器放置位置 | 厦门大学翔安校区能源材料大楼1号楼1139-微纳制造中心-实验室1 |
| 仪器功能介绍 | 磁控溅射可溅射Cr、Al、Pt、Au、Ag、W、TiW、TiN、SixNy氮化薄膜及ITO薄膜 |
| 性能指标 | 1、设备适用于最大8寸，可兼容8寸以下包括碎片 |
| 2、膜厚均匀性(片内)±2%(6寸)，±3%(8寸) | |
| 3、样品台支持加热功能及原位退火功能（最大温度500℃），样品台支持水冷可降低成膜温度，样品台旋转速度0~20rpm | |
| 4、配备4个4寸圆形共焦溅射靶枪(3mm≤靶材厚度≤6mm)，溅射方向从上往下（靶材在上、样品在下） | |
| 5、配备一组射频电源(750W)，两组直流脉冲电源(2000W)，一组射频偏压电源350W,支持镀膜前预清洗 | |
| 6、配备多片进样室，单次最多6层样品自动进出样执行镀膜作业 | |
| 样品要求 | 1、样品最大8寸，可兼容8寸以下及碎片 |
| 2、预约前需提前与管理员确认是否有相应镀膜靶材 | |
| 3、样品高度（厚度）小于6mm | |
| 4、制样时应提供详细的样品说明（包括衬底材质、尺寸、表面状况等）和制样要求（包括沉积膜种类、沉积功率、沉积厚度、膜层性能要求等） | |
| 仪器说明 | 1、设备配有低温泵、独立真空系统 |
| 2、配有4个4寸圆形共焦靶枪，可实现双靶共溅射 | |
| 3、基片可旋转，转速度0-20rpm； | |
| 4、配备四路气体(氧气（50sccm）、氮气（50sccm）、氩气（50sccm和100sccm），MFC控制精度±1%，设置精度0.1sccm。 |
1.本设备为微纳加工平台磁控溅射，支持普通模式、加热模式、水冷模式；
2.校内预约前先与设备负责人林露根18060913878联系，提前准备靶材；
3.样品最大8寸圆形，可兼容8寸以下及碎片；
4.样品最大高度（厚度）小于6mm；
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09:00-12:00;14:00-18:00
0.5 小时
168 小时
0.5 小时
未授权用户: 24小时； 普通资格用户: 24小时； 资深资格用户: 24小时
未授权: 720 小时 0 点； 普通: 720 小时 0 点； 资深: 720 小时 0 点
15 分钟
15 分钟
30 秒
5 秒
120 秒
5 次/天
1440 分钟
| 用户资格 | 工作时间 | 非工作时间 |
|---|---|---|
| 未授权资格 | ||
| 普通资格 | ||
| 资深资格 |
| 序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
|---|
待审核
预约有效
预约完成
预约失约
预约被占用
| 序号 | 标题 | 链接 | 操作 |
|---|
