DE Technology Inc.
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2019-09-09
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戴彬
1.机台含一个自动送样室和一个薄膜沉积腔室； 2.薄膜沉积腔室配冷凝泵，500L/s抽速，腔体极限真空度≤5E-9 Torr； 3.送样室配分子泵，抽速400L/s，腔体极限真空度≤5E-8 Torr； 4.薄膜沉积腔室和送样室共用干泵，9.7L/s抽速； 5.高真空泵和腔体之间均配不锈钢启动插板阀，计算机控制开闭； 6.不锈钢气动初抽真空阀； 7.气动充气阀门，用于腔体充气，计算机控制，安全互锁； 8.皮拉尼探头，用于粗真空和前级粗抽； 9.真空开关； 10.宽量程真空探头； 11.超高真空直线坩埚导位电子束蒸发源，10KW 6KW； 12.6个15CC坩埚穴； 13.可编程束斑扫描控制器； 14.样品和坩埚均配气动挡板； 15.INFICON晶振膜厚仪。
1. 设备适用于最大6寸，可兼容6英寸以下包括碎片； 2. 适用于Lift-off工艺； 3. 常见金属材料，如Au、Ag、Cu、Pt、Ti、Al、Ni、Cr等皆可蒸镀； 4. 镀膜均一性≤3% 5. Recipe可设置镀膜速率和目标膜厚； 6. 机台配置6个15cc坩埚，一次可放置6种材料； 7. 配有晶振膜厚仪，镀膜速率和膜厚时时显示，镀膜速率显示精度0.1A/s，膜厚显示精度1A； 8. 配有扫描仪，可设置电子束扫描形状和频率等参数； 9. 基片可旋转，转速设置范围0-20rpm； 10. 腔体配自动进样室，进样室一次可放置6个6寸基片，成膜腔室一次成膜1片； 11. 进样室极限真空度≤5E-8 Torr，腔体极限真空度≤5E-9 Torr； 12. 基片从送样室进入镀膜室后，镀膜室恢复原高真空的时间少于5分钟。
| 仪器名称 | 电子束蒸发薄膜沉积系统（EBES） Electron Beam Evaporation System |
| 规格型号 | DE Technology DE400 |
| 仪器放置位置 | 厦门大学翔安校区能源材料大楼1号楼1层-微纳制造中心-实验室1 |
| 仪器功能介绍 | 电子束蒸镀主要用于金属材料的成膜， 金属材料如Au、Ag、Cu、Pt、Ti、Al等皆可蒸镀，适用于Life-off工艺。 |
| 性能指标 | （1）设备适用于最大6寸，可兼容6英寸以下包括碎片； （2）镀膜均一性≤3%； （3）镀膜速率和厚度可设定，并时时显示，镀膜速率精度0.1Å/s，膜厚精度1Å； （4）配有6个坩埚槽，一次可放置6种蒸镀材料。 |
| 样品要求 | （1）样品最大6英寸，可兼容6英寸以下及碎片； （2）预约前需提前与管理员确认是否有相应蒸镀材料； （3）非常用蒸镀材料需自带，且最好多准备一片样品用于recipe调试； （4）制样时应提供详细的样品说明（包括衬底材质、尺寸、表面状况等）和制样要求（包括沉积膜种类、沉积速率、沉积厚度、膜层性能要求等）。 |
| 仪器说明 | （1）设备配有自动进样室和工艺腔室，分别配有独立真空系统；（2）配有6个坩埚槽，一次可放置6种材料； （3）配有高压电源和可编程束斑扫描器； |
蒸镀材料薄膜平均粗糙度<3nm
1.如需培训请联系管理员；
2.样品最大支持6英寸，向下兼容，样品高度不超过1cm；
3.只限蒸镀Cr、Al、Ti、Pt、Au、Ag、Cu、Ni、Ge等金属材料；
4.单次镀膜厚度若超过500nm，请先与管理员确认材料是否充足；
**** 请登录后查看管理员信息
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09:00-12:00;14:00-18:00
0.5 小时
168 小时
0.5 小时
未授权用户: 0小时； 普通资格用户: 0小时； 资深资格用户: 0小时
未授权: 720 小时 0 点； 普通: 720 小时 0 点； 资深: 720 小时 0 点
30 分钟
30 分钟
30 秒
5 秒
120 秒
5 次/天
1440 分钟
| 用户资格 | 工作时间 | 非工作时间 |
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| 未授权资格 | ||
| 普通资格 | ||
| 资深资格 |
| 序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
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