嘉庚创新实验室磁控溅射系统（设备型号 MSI-100-HV）开放使用通知

           嘉庚创新实验室磁控溅射系统（MSI-100-HV）已完成装机调试，现正式启用。仪器安装于厦门大学翔安校区能源材料大楼1号楼1139实验室，用户可通过网站预约使用。如有相关加工需求，可联系仪器管理员：林露根，联系电话18060913878。

一、设备主要功能 

  本设备可用于微纳加工领域的金属及化合物薄膜沉积，溅射 Cr、Al、Pt、Au、Ag、Cu、Ti、W、Mo 等金属材料，并支持相应的氮化物、氧化物等薄膜沉积。

二、设备配置

1、最大满足8英寸晶圆，并向下兼容不同尺寸样品

2、配备射频电源，直流脉冲电源

3、工艺温度最高可达500℃