嘉庚创新实验室公共支撑平台紫外纳米压印机开放使用的通知

嘉庚创新实验室紫外纳米压印机（GL8 CLIV Gen2）已完成装机调试（图1），安装于厦门大学翔安校区能源材料大楼1号楼洁净室实验室5，现已开放使用。联系人：郑斌斌 17704610806，胡元飞 15910888096。

图1 紫外纳米压印机

本仪器光源为LED紫外光，波长365nm；适用于8英寸及以下晶圆；对准精度±6μm；极限结构深宽比7.5：1；压印结构精度50nm，可重复性片间偏差<5%；残余层厚度20nm，片间均匀性<±5nm；侧壁垂直度>85°；支持压印斜齿光栅。 适用于微电子制作，MEMS/NEMS/传感器，微流体，光波管；光学器件制作，虚拟现实和增强现实光波导（AR Waveguides）；三维激光微纳米加工。