电感耦合等离子体增强原子层沉积系统（PEALD）正式开放通知

嘉庚创新实验室电感耦合等离子体增强原子层沉积系统（PEALD）已完成装机调试（图1），安装于厦门大学翔安校区能源材料大楼1号楼1139实验室1，将于2024年8月22号正式开放。联系人：李秀婷 （15060733887），何剑波 (18250862613)。

本仪器设备主要功能：沉积高质量SiN薄膜（暂时以SiN为主）

1、典型工艺温度：350℃、400℃

2、薄膜生长速率GPC：0.45~0.68Å/cycle@350℃、0.15~0.25Å/cycle@400℃

3、样品尺寸：满足8英寸，可兼容4、6英寸及以下碎片

4、具有热法和等离子法两种模式实现原子层生长薄膜（ICP射频功率13.56MHz，功率0~300W可调节；工艺加热系统：样品加热温度最高500℃，控温精度优于±1℃）

备注：与平台现有的piscoun ALD差异，该设备具有plasma功能，可以制备SiN，完善了平台ALD制备的薄膜种类