基本信息

  • 生产厂商 华林科纳半导体设备有限公司
  • 资产编号
  • 资产负责人 ----
  • 购置日期2021-12-07
  • 仪器产地江苏南通
  • 仪器供应商华林科纳半导体设备有限公司
  • 购买经办人
  • 主要配件 主要由机架、槽体部分、废液回收单元、排风单元、电气控制单元以及水、气路控制系统等单元组成
  • 主要参数1、槽体可用于6寸、4寸晶圆清洗; 2、配置SC-1、SC-2、SC-3溶液槽,及相对应去离子水清洗槽; 3、加热温度范围:石英槽体(RT~150℃)

仪器介绍

仪器名称

RCA清洗机

规格型号CSE-HLKN2011-YM1602
仪器放置位置厦门大学翔安校区能源材料大楼1号楼1层-微纳制造中心-清洗间
仪器功能介绍该设备主要应用于MEMS领域中半导体材料RCA清洗工艺
样品要求1、样品尺寸6英寸及以下;
仪器说明

1设备壳体及骨架焊接符合标准 SUS304骨架、德国WPP

2配界面操作显示屏 Pro-face10英寸显示屏

3操作权限分级设置 分为操作员、管理员和工艺员

4工艺配方可储存 0-99recipe

5废液回收功能 配置废液回收桶

6设备安全门有互锁功能 实验室门开启会报警提示

7水槽有电阻率检测功能 配有水阻计

8槽体加热根据工艺可调 常温-150℃可调

9液位检测功能 配有低中高液位检测,防干烧

10槽内安装补水管路 可根据液位自动或手动补水

11药液循环 配置循环泵和过滤器

12药液选排放 一路直排一路回收

13配置温度传感器 过热可自动切断加热电源

14配置漏液传感器 漏液设备报警提示

15液位与加热互锁 低液位停止加热