基本信息

  • 生产厂商 苏州方昇股份有限公司
  • 资产编号
  • 资产负责人 ----
  • 购置日期2022-03-20
  • 仪器产地
  • 仪器供应商
  • 购买经办人何剑波
  • 主要配件 1、真空系统： 包含真空腔体（尺寸450*450*610mm）、低温泵(ULVAC CRYO-U8H)、干泵(Edwards XDS35I)、插板阀(V-texCF200)、真空计(Inficon MPG400） 2、蒸发沉积系统： 包含蒸发源8组、电极切换继电器8套、可编程直流电源2台、膜厚控制仪1套、水冷膜厚探头2套、膜厚探头2套 3、样品架系统： 包含水冷样品架1套、样品盘挡板1套、温度监测系统1套、气缸2个、磁流体6个 4、电控系统： 包含伺服电机1台、工控机1台、电源系统(PLC等)1台、水冷机1台
  • 主要参数1、可蒸镀Ag、Al、Cr、Cu、Au、Ni等材料并兼容蒸镀有机材料 2、兼容8英寸方片（203.2mm×203.2mm）及兼容8英寸以下碎片 3、8个蒸发舟 4、输出电流控制精度0.1A 5、极限真空度≤1.5E-5Pa，蒸镀过程中，真空度上升≤1E-3Pa 6、薄膜沉积均匀性≤±5%（8英寸基片范围，膜厚100nm） 7、膜厚重复性≤±5% 8、可旋转、转速0~60rpm可调 9、基片温度均匀性≤±5%

仪器介绍

 

 

仪器名称
热蒸发薄膜沉积系统
Thermal Evaporation Thin Film Deposition System
规格型号
FS450-S8
仪器放置位置
厦门大学翔安校区能源材料大楼1号楼1层-微纳制造中心-实验室1
仪器功能介绍
可蒸镀Ag、Al、Cr、Cu、Au、Ni等材料并兼容蒸镀有机材料，用于Life-off工艺。
性能指标

（1）设备适用于最大8寸，可兼容8寸以下包括碎片；

（2）薄膜均匀性≤5%；

（3）镀膜速率和厚度可设定，并时时显示，镀膜镀率精度0.1Å/s，膜厚精度0.1Å；

（4）配有2套蒸发电源，8个蒸发舟，可满足2种材料共同蒸发。

样品要求

（1）样品最大8寸，可兼容8寸以下及碎片；

（2）预约前需提前与管理员确认是否有相应蒸镀材料；

（3）样品厚度小于20mm；

（4）制样时应提供详细的样品说明（包括衬底材质、尺寸、表面状况等）和制样要求（包括沉积膜种类、沉积速率、沉积厚度、膜层性能要求等）。


仪器说明

（1）设备配有低温泵、独立真空系统；

（2）配有8个蒸发舟，一可满足共蒸需求；

（3）配有2套电源，额定功率1.4KW以上

（4）基片可旋转，转速度0-60rpm；
（5）配有晶振仪，可时时监控膜厚和速率。