基本信息

  • 生产厂商 J.A.Woollam
  • 资产编号
  • 资产负责人 ----
  • 购置日期2022-01-26
  • 仪器产地美国
  • 仪器供应商芷云光电有限公司
  • 购买经办人
  • 主要配件 1、氘灯、卤素灯(光源) 2、自动变角器、微光斑(聚焦件)、12英寸的自动平移台
  • 主要参数1、光谱范围193~1000nm 2、自动xy样品台12英寸圆托盘 3、普通光斑4mm直径、微光斑300μm直径 4、自动变角45~90°,变角准确性0.02°

仪器介绍


序号

名称

技术参数

备注

1       

光谱范围

193~1000nm

/

2       

光源

氘灯(10W)+卤素灯(20W)

/

3       

光谱测试间隔

1nm(测试数据点800个)

/

4       

自动变角

45~90度自动变角,变角准确性0.02度,重复性0.01度

/

5       

自动平移

自动XY样品台(12英寸圆样品托)

300mm X/Y自动平移,最小步长2.5μm

/

6       

Z

自动移动,最大行程18mm,最小步长1μm

/

7       

光斑尺寸

普通光斑4mm直径,微光斑300μm直径

/

8       

测量参数

分光椭偏:

Ψ:(0-90°) Δ:(0-360°)

N, C, 和 S

强度:透射及反射百分比

退偏振:退偏振百分比

广义椭偏:

AnE, Asp,和Aps (广义琼斯矩阵的3个量)

穆勒矩阵:

穆勒矩阵的所有15个归一化元(对m11归一化)

/

9       

测量时间

单点标准椭偏测量最快0.3秒,典型测量时间为1~5秒

/

10      

测试准确性

在直射状态下,测量空光束

Ψ:45 ± 0.02°   

Δ:0 ± 0.05°

退偏振: 0% ± 0.5%

15个归一化穆勒矩阵元

对角线: 1 ± 0.002    非对角线: 0 ± 0.002

*10秒平均时间测量,95%的被测波长满足该指标

/

11      

厚度的测量重复性

膜厚测量优于0.005nm(30次SiO2厚度测量的标准偏差,样品为带有自然氧化层的硅片)

/

12      

折射率n的测量重复性精度

折射率n(632.8nm)0.0005(30次石英基底的标准偏差1δ

/

13      

俯仰调节

手动俯仰调节,内置四象限探测器辅助,用于调整楔形样品,调准样品的表面的俯仰度

/

14      

样品固定方式

真空吸附固定

/

15      

面扫描

适用

/

1.多角度测量材料反射率

不同入射角测量反射率.jpg

2.测量材料光学常数

光学常数.jpg

3.单点或者面扫测量薄膜厚度及均匀性

TiO2均匀性.jpg