基本信息

  • 生产厂商 IONTOF
  • 资产编号
  • 资产负责人 ----
  • 购置日期2021-01-05
  • 仪器产地德国
  • 仪器供应商北京艾飞拓科技有限公司
  • 购买经办人洪宇浩
  • 主要配件
  • 主要参数分析用Bi离子源: 最小脉冲束流直径:≤40 nm(高分辨成像模式); ≤0.4um(高质量分辨率模式) 质量分析器: 质量分析器类型:非线性反射式质量分析器,具有3米飞行路径。 低质量时质量分辨率(SiH+:29amu):≥17000 (半峰宽;100%传输率) 高质量时质量分辨率(>200amu):≥26000 (半峰宽;100%传输率) 质量范围:1~12000amu以上 质量精度:< 1 mu for m< 100 u; < 10 ppm for m > 100 u

仪器介绍

该设备开放校内用户线上预约(预约名称为姓名-XX课题组-X个样品),测试前请先进行项目预约,预约成功后与管理员进行沟通样品情况后,将样品制备好后与经由课题组导师确认并签字的送样单(文件下载版块里)一并提交,提交后更新会更新样品状态。

外部用户测试采用线下预约,测试可联系仪器管理员(洪宇浩,18159966999;刘高娃,17788751526)


最好能提供需要检索的分子式、元素等信息以及其他测试图谱结果。

仪器名称

飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)  

Time of Flight Secondary Ion Mass Spectrometry

规格型号IONTOF M6
仪器放置位置厦门大学翔安校区能源材料大楼1号楼1154实验室
仪器功能介绍

飞行时间二次离子质谱仪,是使用一次脉冲离子轰击固体材料表面,通过测定表面被激发出的二次离子的质荷比可精确确定样品表面的组分构成,配合样品表面的扫描和剥离,可以得到样品表面及三维的成分分布图。

性能指标

(1)横向分辨率< 50 nm,深度分辨率<1 nm;

(2)质量分辨率(m / ∆m):> 17000(28SiH+);> 26000(> 200 amu);> 17000 (绝缘样品PET,104 amu)

(3)质量范围:1 - 12000 amu;

(4)质量精度:1 mamu (质量数 < 100),10 ppm(质量数 > 100)

(5) 检测灵敏度:ppm / ppb

(6) 信噪比:R=I (28Si+) / I (28.5 u) > 2×105

(7)检测元素:H-U及其同位素


样品要求

(1)样品建议为完整平面,尺寸大有一维大于8mm,小于15mm,最好整体大于8 X 8 mm,<15 X 15mm,粉末样品要求压片(方法见附件),厚度<5mm,要求导电性好

(2)样品无毒,且不含腐蚀性物质

(3)样品不含磁性物质

(4)样品不含放射性物质

(5)样品干燥(最好经过真空烘干),不含结晶水

(6)样品在高真空下不挥发

(7)不可用笔类标记样品,用镊子或金刚石笔在样品上进行划

(8)样品非易燃易爆品

仪器说明

(1)常规测试:获得样品表面质谱谱图信息;

(2)二维成像测试:给出样品表面组分分布信息;

(3)三维重构:给出样品表面三维样品重构信息;

(4)转移仓传输:可通过转移仓进行传输样品,针对钙钛矿薄膜以及锂离子电池等空气敏感样品的准原位测试需求。

(5)加热冷却样品台:适用于原位观察样品(加热不释气体,非液体降温固化)

论文描述模板:

中文:本实验采用飞行时间二次离子质谱仪(ION GGmbH M6),分析源为 Bi3+,能量30keV,束流为0.5 pA 测试区域为XXX um x XXX um,溅射源为 Ar/O/Cs/GCIB 能量为XX keV,束流为 XXX nA, 溅射区域为  XXX um x XXX um。中和采用电子枪与Ar气氛双束中和。

英文模板:

 TOF-SlMS was carried out on a TOF-SlMS instrument (IONTOF M6) equipped with a bismuth primary ion source and a Ar+ sputter source for probing the fragment ions. The 3D reconstruction graphs of various components were obtained on the area of 300 x 300 um by using a 30 keV Bi3+ primary ion beam,followed by a 1.63 second/cycle sputter of a 500 x 500 um area using 1keV Ar+ ion beams in an interlaced mode.

粉末样品压片(胶带法)具体操作步骤:

1、 准备干净的铝箔(>2 cm×2cm) ,用丙酮将其表面擦拭干净。剪约1 cm×1cm 的双面胶(导电胶、铜胶带,根据样品性质选择,如用碳粉搭配碳胶可能找不到样品)带贴在铝箔中心位置。

2、将样品铺在双面胶带上,并用干净的不锈钢取样勺将粉末均匀铺满整个胶带,尽量薄。

3、 取另一片用丙酮擦拭干净的铝箔覆盖住样品。

4、将铝箔+样品放置于两块平整的不锈钢模块中间,准备压片 。

 

 

 样品制备

 

5、将不锈钢模块+样品放置在压片机的平台上,左手固定住不锈钢块以免其移动,右手顺时针将压柱旋下压紧模块(压机上方) 。

6、顺时针旋紧放油旋钮(压机前方旋钮),拉动右侧压杆,将压力升至至约1MPa,保持十几秒。

 

 

 样品压片

 

7、卸压时先逆时针旋松放油旋钮,再逆时针将压柱旋松,从压片机上取下不锈钢模块+样品。

8、将覆盖住样品的铝箔去掉,用洗耳球吹去表面残余的粉末。 

9、沿压制好的样品四周剪去铝箔,制成~10mm x 10mm 的压片样品,等待测试。