基本信息

  • 生产厂商 Nanoscribe GmbH&CO.KG
  • 资产编号
  • 资产负责人 ----
  • 购置日期2022-08-01
  • 仪器产地德国
  • 仪器供应商广东省中科进出口有限公司
  • 购买经办人
  • 主要配件 63倍油浸式显微镜物镜； 25倍油浸式显微镜物镜； 20倍显微镜物镜； 10倍显微镜物镜；
  • 主要参数Photonic Professional GT2系统能够加工各种光敏材料，包括而不限于：SU-8，Ormocere，PEG-DA，AZ系列，As2S3，IP-L780，IP-G780等。PPGT2系统能够兼容STL图形文件格式。PPGT2系统具有很高的加工精度：横向最小三维线宽≤200nm；横向三维最佳分辨率≤700nm以下；垂直方向最佳分辨率≤1000nm；扫描振镜模式有效最高写入速度100mm/s；加工样品的最大高度不低于7mm；具有自动侦测光刻胶与衬底界面的功能。

仪器介绍

仪器名称双光子微纳3D打印系统
3D Micro/Nano Lithography System 
规格型号Photonic Professional   GT2
仪器放置位置能源材料大楼1号楼微纳制造中心实验2
仪器功能介绍1、三维立体亚微米器件制作；
2、光学波导制作；
3、光纤光栅 制作；
4、微透镜阵列制作；
性能指标1、飞秒激光器：脉宽≤120fs；重频80MHz±1MHz；平均输出功率＞120mW;
2、4种物镜：63X物镜，NA1.4，WD   360μm（DILL模式）&190μm（油镜模式）； 25X物镜，NA0.8，WD 380μm； 20X物镜，NA0.5，WD 2100μm； 10X物镜，NA0.3，WD 700μm；
3、压电陶瓷三维扫描平台(X-Y-Z)，移动分辨率1nm，移动重复精度误差≤10nm；
4、XY长行程工件台，加工面积为100*100mm2；
5、具有很高的加工精度：横向最小三维线宽≤200nm；横向三维最佳分辨率≤700nm以下；垂直方向最佳分辨率≤1000nm；
样品要求1、样品大小厚度需与样品架相匹配；（如，63X：25 × 25 × 0.7 mm3，Ø 30 mm ×170 µm；25X：25 × 25 × 0.7 mm3；20X：2寸/4寸 0.35   – 0.55 mm ；10X：25 × 25 × 0.725 mm3，2寸 0.35 – 0.55 mm）
2、样品的折射率与光刻胶的折射率有明显差异；
3、光刻胶：包括而不限于：SU-8，Ormocere，PEG-DA，AZ系列，As2S3，IP-L780，IP-G780等；现有光刻胶IP-Dip2（63X，折射率1.526 @ 589 nm,   20°C），IP-L（63X，折射率1.485 @ 589 nm, 20°C），IP-S（10X，折射率1.487 @ 589 nm, 20   °C），IP-Q（10X，折射率1.487 @ 589 nm, 20° C），IP-Visio（25X，折射率1.486 @ 589 nm,   20°C）；
4、适用透明、不透明材料；
仪器说明1、原位CCD观察；
2、振镜扫描模式和压电台扫描模式；
3、版图格式STL，版图需提前切分处理OK；