主要用于制备超薄，高质量的TEM样品，适用于FIB制备TEM样品/离子减薄样品的后续精修，可有效去除非晶层且不产生再沉积，能实现准定点位置或在一个选定的区域进行精细修复。

1.离子束能量：50 eV至2000 eV

2. 最大离子束电流： 150 pA

3. 离子束尺寸：500 eV时直径为1至3μm

4. 离子束聚焦：0至6 kV

5. 冷台控温范围：-170℃~室温

1. FIB样品：一般要求FIB样品长度＞10μm，最好以侧焊方式固定，样品内侧镂空以防止反沉积

2.离子减薄样品：需预先制备符合TEM观测要求的薄区，再在光镜下标定需要精修的区域

3.不接磁性样品，如含有Fe, Co, Ni, Mn等磁性物质；

4.不接受放射性、腐蚀性、有毒、易挥发、易升华（单质硫、碘等）、易燃易爆、不符合生物安全标准、电子束辐照后不稳定等类似样品；

1. 具有超低能量的惰性气体Ar离子源；

2. 具备离子成像功能，能够高精度定位去除非晶层；