仪器名称 | 紫外纳米压印机 Nano-im#### lithography machine |
规格型号 | GL8 CLIV Gen2 |
仪器放置位置 | 能源材料大楼1号楼微纳制造中心实验5 |
仪器功能介绍 | 1、微电子制作,MEMS/NEMS/传感器,微流体,光波管; 2、光学器件制作,虚拟现实和增强现实光波导(AR Waveguides); 3、三维激光微纳米加工; |
性能指标 | 1、光源:365nm LED紫外光固化系统; 2、压印结构精度50nm;深宽比7.5:1;压印残余层厚度<20nm; 3、对位精度:上下层对位标记几何中心偏差不超过±6um; 4、加工面积:200mm*200mm; |
样品要求 | 1、样品尺寸:2/4/6/8寸晶圆; 2、载台最高温度70℃; 3、基底材料:硅片、玻璃、石英、塑料、金属等; 4、原始模具材料:硅片、玻璃、石英、塑料、金属等; |
仪器说明 | 1、自动压印、自动曝光固化、自动脱模; 2、兼容工作模具张力控制单元、离线工作模具复制单元; 3、载台最高温度70℃; |