1. 8寸及以下；

1.  o 最大支持晶圆尺寸：8英寸

2. o 兼容更小尺寸样品

3. 2. 衬板与样品台设计 

4. o 专用衬板：2套，易拆卸、易清洁

5. o 样品台倾斜范围：-90°至+80°

6. o 样品台旋转速度：0-20rpm可调

7. 3. 射频离子源技术 

8. o 离子源直径：≥220mm

9. o 提供稳定、高效的离子束输出

10. 4. 刻蚀性能 

11. o 支持垂直刻蚀与斜齿刻蚀

12. o 8英寸样品片内均匀性：<5%

13. o 6英寸样品片内均匀性：<3%

14. 5. 工艺温度控制 

15. o 腔体内工艺温度：≤80℃

16. 6. Load Lock腔体设计 

17. o 有效隔离外界污染，提高工艺效率与设备稳定性

18. 7. 真空系统 

19. o 泵组配置：涡轮分子泵+干泵

20. o 真空计配置：工艺腔与Load Lock腔分别配置

21. o 分子泵最大抽速：不低于2100L/s

22. o 干泵最大抽速：不低于600m³/h

23. o 工艺腔极限真空度：7x10-7Torr量级，20分钟可达10-6Torr量级。

24. o Load Lock极限真空度：10-6Torr，15分钟可达10-4Torr。