仪器名称 | 大型激光直写系统 |
仪器型号 | DWL 66+ |
仪器功能 | 1、普通光刻:百纳米/微米级图形结构、掩模版等; 2、正背面套刻; 3、灰度加工:支持0~255灰阶,三维形貌结构; 4、自动测量系统:可测量线宽,间距,线边粗糙度等 |
性能指标 | 1、最高分辨率300nm; 2、4种写头,分辨率分别为0.3/0.6/1/4μm; 3、正背面套刻功能,正面套刻精度:0.5μm,背面套刻精度:1μm; 4、最高分辨率下加工拼接精度:50nm; 5、灰度光刻:支持0~255灰阶; 6、最大基板尺寸9英寸,最大写入面积200×200mm2,最快刻写速度:2000 mm2/min; |
样品要求 | 1、支持8英寸及向下尺寸兼容; 2、样品厚度0~12mm; |