基本信息

  • 生产厂商 DE Technology Inc.
  • 资产编号
  • 资产负责人 ----
  • 购置日期2019-09-09
  • 仪器产地
  • 仪器供应商
  • 购买经办人戴彬
  • 主要配件 1.机台含一个自动送样室和一个薄膜沉积腔室； 2.薄膜沉积腔室配冷凝泵，500L/s抽速，腔体极限真空度≤5E-9 Torr； 3.送样室配分子泵，抽速400L/s，腔体极限真空度≤5E-8 Torr； 4.薄膜沉积腔室和送样室共用干泵，9.7L/s抽速； 5.高真空泵和腔体之间均配不锈钢启动插板阀，计算机控制开闭； 6.不锈钢气动初抽真空阀； 7.气动充气阀门，用于腔体充气，计算机控制，安全互锁； 8.皮拉尼探头，用于粗真空和前级粗抽； 9.真空开关； 10.宽量程真空探头； 11.超高真空直线坩埚导位电子束蒸发源，10KW 6KW； 12.6个15CC坩埚穴； 13.可编程束斑扫描控制器； 14.样品和坩埚均配气动挡板； 15.INFICON晶振膜厚仪。
  • 主要参数1. 设备适用于最大6寸，可兼容6英寸以下包括碎片； 2. 适用于Lift-off工艺； 3. 常见金属材料，如Au、Ag、Cu、Pt、Ti、Al、Ni、Cr等皆可蒸镀； 4. 镀膜均一性≤3% 5. Recipe可设置镀膜速率和目标膜厚； 6. 机台配置6个15cc坩埚，一次可放置6种材料； 7. 配有晶振膜厚仪，镀膜速率和膜厚时时显示，镀膜速率显示精度0.1A/s，膜厚显示精度1A； 8. 配有扫描仪，可设置电子束扫描形状和频率等参数； 9. 基片可旋转，转速设置范围0-20rpm； 10. 腔体配自动进样室，进样室一次可放置6个6寸基片，成膜腔室一次成膜1片； 11. 进样室极限真空度≤5E-8 Torr，腔体极限真空度≤5E-9 Torr； 12. 基片从送样室进入镀膜室后，镀膜室恢复原高真空的时间少于5分钟。

仪器介绍

 

仪器名称
电子束蒸发薄膜沉积系统（EBES）
Electron Beam Evaporation System
规格型号
DE Technology DE400
仪器放置位置
厦门大学翔安校区能源材料大楼1号楼1层-微纳制造中心-实验室1
仪器功能介绍
电子束蒸镀主要用于金属材料的成膜， 金属材料如Au、Ag、Cu、Pt、Ti、Al等皆可蒸镀，适用于Life-off工艺。
性能指标

（1）设备适用于最大6寸，可兼容6英寸以下包括碎片；

（2）镀膜均一性≤3%；

（3）镀膜速率和厚度可设定，并时时显示，镀膜速率精度0.1Å/s，膜厚精度1Å；

（4）配有6个坩埚槽，一次可放置6种蒸镀材料。

样品要求

（1）样品最大6英寸，可兼容6英寸以下及碎片；

（2）预约前需提前与管理员确认是否有相应蒸镀材料；

（3）非常用蒸镀材料需自带，且最好多准备一片样品用于recipe调试；

（4）制样时应提供详细的样品说明（包括衬底材质、尺寸、表面状况等）和制样要求（包括沉积膜种类、沉积速率、沉积厚度、膜层性能要求等）。

仪器说明

（1）设备配有自动进样室和工艺腔室，分别配有独立真空系统；（2）配有6个坩埚槽，一次可放置6种材料；

（3）配有高压电源和可编程束斑扫描器；
（4）基片可旋转，转速度0-20rpm；
（5）配有晶振仪，可时时监控膜厚和速率。

                                                                                                                                                                                                                               蒸镀材料薄膜平均粗糙度<3nm

粗糙度.jpg