栅距为0.8μm光栅
仪器名称 | 激光直写光刻系统 Laser Direct Lithography System |
| 规格型号 | Microtech LW405D |
| 仪器放置位置 | 厦门大学翔安校区能源材料大楼1号楼微纳制造中心洁净室实验室2 |
| 仪器功能介绍 | 1、快速微纳米加工和小规模生产，可达到高分辨的器件； 2、掩膜板制作，无掩膜激光直写，成衍射光学器件， MIC微波集成电路； 3、微电子制作，MEMS/NEMS/传感器，微流体，光波管； 4、石墨烯器件，三维激光微纳米加工； |
| 性能指标 | 1、405nm和375nm双激光源； 2、四个平行激光头，分辨率分别为0.7um, 1.6um, 4um，8um； 3、加工深宽比优于5比1； 4、150mm*150mm加工面积； 5、10nm纳米平台定位精度； |
| 样品要求 | 1、样品尺寸小于150mm*150mm; 2、表面光刻胶涂层，厚度1微米到20微米； 3、硬性衬底如玻璃，硅片； 柔性衬底如PET等； 4、样品整体厚度不超过10mm; |
| 仪器说明 | 1、原位CCD观察和量测； 2、激光束光栅扫描模式, 样品台扫描模式, 矢量光刻模式, 轮廓光刻模式； 3、用于多层光刻图形的刻套校准； 4、3D灰度光刻能力Grey-level, 每像素点256阶； |
